激光共聚焦顯微鏡在晶體硅太陽能電池中的應(yīng)用尤為突出,尤其是近幾年世界科學(xué)領(lǐng)域逐漸向太陽能延伸拓展。
全自動影像測量儀能夠高效地檢測各種復(fù)雜工件的輪廓和表面形狀尺寸、角度及位置,特別是精密零部件的微觀檢測與質(zhì)量控制。
在手動影像儀,二次元影像儀,三次元影像測量儀,自動影像儀等層出不窮的科技迸發(fā)的時代,如何選好合適自己產(chǎn)品檢測的儀器,高效性,精準(zhǔn)性,性價比等等因素相互共同制約著,曼戈斐光學(xué)告訴您性價比之最——OPTEK自動影像儀。
以生命科學(xué)領(lǐng)域來說,絕大部分的光學(xué)共聚焦顯微鏡都是單光路設(shè)計的顯微鏡;有一類顯微鏡,稱之為,體式顯微鏡,或?qū)嶓w顯微鏡,或解剖鏡,是雙光路設(shè)計,即模仿人眼光路,對標(biāo)本獲取具有立體感的共聚焦顯微鏡。
在使用共聚焦顯微鏡的時候光的強(qiáng)度也成為制約檢測結(jié)果的關(guān)鍵一環(huán)。如何巧妙的控制好這一點(diǎn),首先跟隨曼戈斐光學(xué)來逐步了解共聚焦顯微鏡的結(jié)構(gòu)構(gòu)造。
從光源發(fā)出的光線通過空氣和普通玻璃時,在與光線垂直的平面內(nèi)的各個方向以同一振幅進(jìn)行振動并迅速向前方傳遞,這是光的波動性原理。
自動影像儀具有人工測量、CNC掃描測量、自動學(xué)習(xí)測量三種方式,并可將三種方式的模塊疊加進(jìn)行復(fù)合測量。
為了便于直觀的觀察各種熒光在不同部位的表達(dá),我們還需要一張各種熒光疊加的合并圖像,此時點(diǎn)擊Overlay鍵即可。
激光掃描共聚焦顯微鏡與普通顯微鏡相比,激光共聚焦顯微鏡采用了能達(dá)到最高分辨率及重復(fù)性額無色差掃描技術(shù),能產(chǎn)生真正具有三維清晰的圖像,而且不破壞樣品表面物理特性產(chǎn)生的破損。
現(xiàn)代科技的不斷進(jìn)步,激光共聚焦顯微鏡使用過程逐漸簡便,自動化,同時帶來的一些問題諸如平時機(jī)器的保養(yǎng)問題等等,下面曼戈斐光學(xué)就為你淺析一二。
“共聚焦”通過聚焦的激光對樣品進(jìn)行掃描,這種方法可以排除焦點(diǎn)意外的部分反射光干擾,使側(cè)向和軸向的分辨率提高。
激光共聚焦顯微鏡的物鏡采用激光束作光源,激光束經(jīng)照明針孔,經(jīng)由分光鏡反射至物鏡,并聚焦于樣品上,對標(biāo)本焦平面上每一點(diǎn)進(jìn)行掃描。
OPTEK三次元影像測量儀其優(yōu)秀的軟件和硬件性能協(xié)調(diào)測量變得方便和舒適,有基于機(jī)器視覺和自動學(xué)習(xí)功能的過程控制,基于高速、精確的數(shù)字儀表微米級,可以測量過程的路徑,重點(diǎn),選擇、功能轉(zhuǎn)換開關(guān),手動校正,光匹配等操作過程自我學(xué)習(xí)和記憶。
OPTEK自動影像儀精確的視覺對齊,確保運(yùn)營商從疲勞,頻繁的研究中,重復(fù)和開關(guān)函數(shù)單調(diào)操作測試和日益繁重的任務(wù),一百倍提高工件批量測試的效率,滿足行業(yè)的需求和質(zhì)量檢測。
自動影像儀在日常頻繁的使用過程中,難免會遇到種種各式各樣的難題。三次元影像儀常見故障分為工作臺故障、影像成像故障、電氣故障、投影屏故障、投影成像故障、升降傳動故障等。 下面曼戈斐光學(xué)介紹幾種常見的使用故障及處理方法。
OPTEK全系列自動影像儀標(biāo)配的測量軟件體現(xiàn)了公司三十余載的技術(shù)積累,通過不斷的完善和實踐驗證,已成為業(yè)內(nèi)公認(rèn)的功能全面,算法先進(jìn),性能穩(wěn)定的優(yōu)秀軟件。
OPTEK全系列自動影像儀標(biāo)配的測量軟件體現(xiàn)了公司三十余載的技術(shù)積累,通過不斷的完善和實踐驗證,已成為業(yè)內(nèi)公認(rèn)的功能全面,算法先進(jìn),性能穩(wěn)定的優(yōu)秀軟件。
自動影像儀是影像測量技術(shù)的高級階段,具有高度智能化與自動化特點(diǎn)。
激光掃描共聚焦顯微鏡通過對樣品X-Y軸的逐點(diǎn)掃描,形成二維圖像。如果在z軸上調(diào)節(jié)聚焦平面的位置,連續(xù)掃描多個不同2位置的二維圖像,則可獲得一系列的光學(xué)切片圖像。
隨著科學(xué)研究和先進(jìn)制造技術(shù)的發(fā)展,滿足各種不同功能需求的多樣化表面不斷出現(xiàn),從統(tǒng)計性形貌特征表面發(fā)展到結(jié)構(gòu)性表面,從簡單幾何表面發(fā)展到自由曲面,從微米精度發(fā)展到納米精度要求。這些發(fā)展對共聚焦顯微鏡表面形貌測量技術(shù)提出了越來越高的新的要求。